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使徒行者5个卧底分别是谁,使徒行者5个卧底分别是谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月(yuè)24日消息,国(使徒行者5个卧底分别是谁,使徒行者5个卧底分别是谁guó)家知识产权(quán)局局长(zhǎng)申(shēn)长雨在新(xīn)闻发布会上表示,将统筹推进各类知(zhī)识产(chǎn)权(quán)法律法规和制度规则(zé)的制修订工作(zuò)。其中,修改完善(shàn)集成电路布图设(shè)计保护条(tiáo)例,适(shì)应大规(guī)模集成电路发展需要(yào),助力芯片产业做(zuò)大做强,服务数字经(jīng)济(jì)更好发展。

  加强大数据(jù)、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研(yán)究,助力相(xiāng)关领域创新发展。同(tóng)时,积(jī)极参与知(zhī)识产权国际规则(zé)制定,更好对接(jiē)高(gāo)标(biāo)准(zhǔn)国际经(jīng)贸规则(zé),助力(lì)高水平对外(wài)开放(fàng)。

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