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马云移民到哪国籍 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日(rì)消息,国家知识产权局(jú)局(jú)长(zhǎng)申长雨在新闻发布(bù)会(huì)上(shàng)表(biǎo)示,将(jiāng)统(tǒng)筹推进各类(lèi)知识产权法律(lǜ)法规和制(zhì)度(dù)规(guī)则(zé)的制修订(dìng)工作。其中(zhōng),修改(gǎi)完(wán)善集(jí)成(chéng)电路(lù)布图设(shè)计(jì)保护条(tiáo)例(lì),适(shì)应大(dà)规模(mó)集(jí)成电路发展需要,助力(lì)芯片产业做大做强(qián马云移民到哪国籍g),服务数字经济更好(hǎo)发展(zhǎn)。

  加强大数据、人工智能、基因技术等新领(lǐng)域新业(yè)态知识产权规则研究,助(zhù)力相关领域创新发展。同时,积极参与知识(shí)产权国际规则制定(dìng),更好对接高标准国际经(jīng)贸规则,助力高水(shuǐ)平对外开放(fàng)。

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